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北方华创获得介质窗及半导体工艺腔室专利提高半导体工艺技术
更新日期:2025-03-29 |   更新作者: 工字扣

  金融界2025年1月2日音讯,国家知识产权局信息数据显现,北京北方华创微电子配备有限公司获得一项名为“介质窗及半导体工艺腔室”的专利,授权公告号 CN 222233566 U,请求日期为 2023年7月。

  专利摘要显现,本请求施行例供给了一种介质窗及半导体工艺腔室,触及半导体工艺技术领域,其间,所述介质窗应用于半导体工艺腔室,所述介质窗的底面具有凹面区,所述凹面区的表面朝接近所述介质窗的顶面的方向洼陷,所述凹面区坐落所述介质窗的底面靠中心的区域。


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